脫硝系統(tǒng)中氣流的均布性是影響脫硝性能的關(guān)鍵因素，它直接影響著脫硝效率、化學(xué)反應(yīng)充分程度、催化劑磨損等。反映到指標(biāo)上，在進(jìn)氣煙道里為保證氣流與AIG噴氨系統(tǒng)所噴氨氣充分混合，則應(yīng)保證在AIG噴氨格柵前氣流要相對均布；在氣流進(jìn)入第一層催化劑前（整體模型中無催化劑模型）應(yīng)滿足相對標(biāo)準(zhǔn)偏差≤25%（若有催化劑模型時，相對標(biāo)準(zhǔn)偏差≤15%）。

優(yōu)化前經(jīng)CFD數(shù)值模擬，設(shè)備存在問題：
1、進(jìn)氣煙道內(nèi)氣流分布不均勻，是進(jìn)入設(shè)備內(nèi)氣流分布效果差的一個原因。
2、右側(cè)區(qū)域氣流速度偏高，容易導(dǎo)致催化劑層磨損，左側(cè)氣流速度太低，容易導(dǎo)致催化劑層堵塞。
3、催化劑上平面速度分布相對標(biāo)準(zhǔn)偏差80.54%。
4、進(jìn)口處氣流流動狀態(tài)變化較大，引起阻力上升。

優(yōu)化措施：
1.進(jìn)口處增加弧形導(dǎo)流板，優(yōu)化氣流流動狀態(tài)
2.進(jìn)氣煙道轉(zhuǎn)彎處增加導(dǎo)流板使煙道內(nèi)氣流速度分布均勻
3.頂部斜煙道處增加阻流板，保證氣流在催化劑上平面速度分布均勻

優(yōu)化后氣流在設(shè)備本體內(nèi)的流線平順，流速均勻。相對標(biāo)準(zhǔn)偏差Sr=21.8%，符合氣流均勻性判定的要求，使得氣流進(jìn)入催化劑前均勻性得到很大改善。

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